中国新一代前道光刻机模型亮相 国产化率超90%

据《上海证券报》报道，11月5日至10日，第九届中国国际进口博览会在上海举办，多项重磅科技成果集中亮相。上海微电子装备集团（SMEE）携自主研发的新一代前道干式扫描投影光刻机SSC800、SSB800模型登陆中国馆，展示中国前道光刻装备自主化取得的阶段性进展。

本次展出模型采用透明剖视设计，清晰展示整机光学光路及内部机电系统布局。该平台为国产标准化前道光刻装备架构，兼容I-line、KrF两大主流技术路线。高精度物镜、照明系统、高速双工件台、掩模台、自动物料传输、对准调平传感等核心系统实现全链条自主可控，工艺适配与产线稳定性良好。

据介绍，国产前道干式光刻机成像性能已比肩国际同类领先产品，套刻精度、生产效率持续对标国际标杆。SSC800系列KrF机型、SSB800系列I-line机型搭载自研大NA物镜，SSC800综合性能跻身行业第一梯队。设备关键零部件国产化率突破90%，已完成定型并规模化量产，填补国内空白。多台设备落地国内头部逻辑、存储芯片产线稳定运行，累计支撑流片超千万片，设备有效运行率超过92%。

上海微电子成立于2002年，是国内唯一可稳定量产交付前道干式光刻机的企业，为国内光刻装备自主供给的核心主体。企业持续深耕自主创新，联动上下游产业链，协同打造半导体产业生态，为国内半导体产业升级提供核心装备支撑。