中國新一代前道光刻機模型亮相 國產化率超90%

據《上海證券報》報道，11月5日至10日，第九屆中國國際進口博覽會在上海舉辦，多項重磅科技成果集中亮相。上海微電子裝備集團（SMEE）攜自主研發的新一代前道乾式掃描投影光刻機SSC800、SSB800模型登陸中國館，展示中國前道光刻裝備自主化取得的階段性進展。

本次展出模型採用透明剖視設計，清晰展示整機光學光路及內部機電系統佈局。該平臺爲國產標準化前道光刻裝備架構，兼容I-line、KrF兩大主流技術路線。高精度物鏡、照明系統、高速雙工件臺、掩模臺、自動物料傳輸、對準調平傳感等核心系統實現全鏈條自主可控，工藝適配與產線穩定性良好。

據介紹，國產前道乾式光刻機成像性能已比肩國際同類領先產品，套刻精度、生產效率持續對標國際標杆。SSC800系列KrF機型、SSB800系列I-line機型搭載自研大NA物鏡，SSC800綜合性能躋身行業第一梯隊。設備關鍵零部件國產化率突破90%，已完成定型並規模化量產，填補國內空白。多臺設備落地國內頭部邏輯、存儲芯片產線穩定運行，累計支撐流片超千萬片，設備有效運行率超過92%。

上海微電子成立於2002年，是國內唯一可穩定量產交付前道乾式光刻機的企業，爲國內光刻裝備自主供給的核心主體。企業持續深耕自主創新，聯動上下游產業鏈，協同打造半導體產業生態，爲國內半導體產業升級提供核心裝備支撐。